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PVD V201-12硬质涂层设备

PVD V201-12硬质涂层设备

  • 所属分类:PVD硬质涂层设备
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  • 发布时间:2022-06-27 09:50:03
  • 产品概述

PVD V201-12硬质涂层设备

PVD V201-12硬质涂层设备主要技术参数与配置:

1、真空室内尺寸:正八边形结构(对边距离:1250 mm)炉内高度:1260mm;

2、可移出式转架:无需定位,可任意位置移出,传动可靠(专利技术);

3、阴极电弧:φ160mm双驱动动态磁控阴极电弧*12;

4、IET离子刻蚀源:1套。

技术特点:

该设备在PVD V201硬质涂层设备(12弧)的基础上进行升级,阴极电弧的数量升级为12个(3组)。可制备更多膜系。多种工艺选择,可满足用户的各种需求。PVD V201的设计让现场维护和保养十分方便,系统可以从两侧打开,所有系统部件都伸手可及。

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