PVD V201-8硬质涂层设备主要技术参数与配置:
1、真空室容积:φ1000*1200mm;
2、有效镀膜区:φ700*850mm;
3、可移出式转架:无需定位,可任意位置移出,传动可靠(专利技术);
4、阴极电弧:φ160mm双驱动动态磁控阴极电弧*8;
5、IET离子刻蚀源。
技术特点:
该系列采用动态双驱动磁控阴极电弧技术,离化率高。可制备TiN、CrN、TiAlN、AlTiN、AlCrN、AlCrSiN等单层或多层膜系。高效的涂层前离子刻蚀技术,保证了涂层的结合力及性能。该系列设备在镀膜过程中无需打底层(过渡层),直接成膜,沉积效率高。
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