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地址：辽宁省沈阳市沈北新区七星大街63-71号
PVD V201-8硬质涂层设备主要技术参数与配置：
1、真空室容积：φ1000*1200mm；
2、有效镀膜区：φ700*850mm；
3、可移出式转架：无需定位，可任意位置移出，传动可靠（专利技术）；
4、阴极电弧：φ160mm双驱动动态磁控阴极电弧*8；
5、IET离子刻蚀源。
技术特点：
该系列采用动态双驱动磁控阴极电弧技术，离化率高。可制备TiN、CrN、TiAlN、AlTiN、AlCrN、AlCrSiN等单层或多层膜系。高效的涂层前离子刻蚀技术，保证了涂层的结合力及性能。该系列设备在镀膜过程中无需打底层（过渡层），直接成膜，沉积效率高。
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